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抛光(guāng)機(jī)工(gōng)作原理
抛光(guāng)機(jī)操作的關鍵是要設法得到(dào)大的抛光(guāng)速率,以便盡快除去磨光(guāng)時産生(shēng)的損傷層。同時也要使抛光(guāng)損傷層不會(huì)影響觀察到(dào)的組織。前者要求使用較粗的磨料,有較大的抛光(guāng)速率來去除磨光(guāng)的損傷層,但抛光(guāng)損傷層也較深;後者要求使用細的材料,使抛光(guāng)損傷層較淺,但抛光(guāng)速率低(dī)。
解決這個(gè)矛盾的的辦法就(jiù)是把抛光(guāng)分為(wèi)兩個(gè)階段進行。粗抛目的是去除磨光(guāng)損傷層,這一(yī)階段應具有大的抛光(guāng)速率,粗抛形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應當盡可能(néng)小(xiǎo);其次是精抛(或稱終抛),其目的是去除粗抛産生(shēng)的表層損傷,使抛光(guāng)損傷減到(dào)小(xiǎo)。抛光(guāng)機(jī)抛光(guāng)時,試樣磨面與抛光(guāng)盤應平行并均勻地輕壓在抛光(guāng)盤上(shàng),注意防試樣飛(fēi)出和因壓力太大而産生(shēng)新磨痕。同時還(hái)應使試樣自(zì)轉并沿轉盤半徑方向來回移動,以避免抛光(guāng)織物(wù)局部磨損太快在抛光(guāng)過程中要不斷添加微粉懸浮液,使抛光(guāng)織物(wù)保持一(yī)定濕度。濕度太大會(huì)減弱抛光(guāng)的磨痕作用,使試樣中硬相(xiàng)呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜(zá)物(wù)及鑄鐵中石墨相(xiàng)産生(shēng)“曳尾”現象;濕度太小(xiǎo)時,由于摩擦生(shēng)熱會(huì)使試樣升溫,潤滑作用減小(xiǎo),磨面失去光(guāng)澤,甚至出現黑(hēi)斑,輕合金則會(huì)抛傷表面。為(wèi)了達粗抛的目的,要求轉盤轉速較低(dī),不要過600r/min;抛光(guāng)時間應當比去掉劃痕所需的時間長(cháng)些,因為(wèi)還(hái)要去掉變形層。粗抛後磨面光(guāng)滑,但黯淡無光(guāng),在顯微鏡下(xià)觀察有均勻細緻的磨痕,有待精抛消除。